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随着半导体微电子技术的发展,各种新的光电导材料不断出现。在可见光波段方面,到20世纪50年代中期,性能良好的硫化镉、硒化镉光敏电阻和红外波段的硫化铅光电探测器都已投入使用。60年代初,中远红外波段灵敏的Ge、Si掺杂光电导探测器研制成功,典型的例子是,工作在3~5um和8~14μm波段的Ge:Au(锗掺金)和Ge:Hg光电导探测器。60年代末以后,HgCdTe、PbSnTe等可变禁带宽度的三元系材料的研究取得进展。
通常,凡合适的禁带宽度或杂质离化能半导体材料都具有光电效应。但是制造实用性器件还要考虑性能、工艺、价格等因素。目前光电探测器所用材料一般有Ⅲ-V族、Ⅱ-族、 N-V族、N-N族化合物半导体材料、硅元素半导体材料及热释电材料。常用的光电探测器材料在射线和可见光波段有CdS、CdSe、CdTe、Si、Ge等;在近红外波段有 PbS、PbSe、InSb Hgo.rsCd.sTe等;在长于8pm波段有Hg1-,Cd,Te、Pb,Sn:、Te、掺杂Si、掺杂Ge和CdS、 CdSe、PbS等多晶薄膜材料。